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PRODUCTS CENTER

產(chǎn)品中心

當前位置:首頁產(chǎn)品中心電鏡樣品制備鍍膜儀INS-H32MTC高真空碳金一體鍍膜機
高真空碳金一體鍍膜機

產(chǎn)品簡介

滿足各種掃描電鏡導電膜制備及透射電鏡碳膜制備需求

產(chǎn)品型號:INS-H32MTC
更新時間:2026-01-30
廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
訪問量:108
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INS-H32MTC

?磁控濺射+熱蒸發(fā)鍍碳雙功能

?滿足各種掃描電鏡導電膜制備及透射電鏡碳膜制備需求

?多功能樣品臺支持旋轉(zhuǎn)、升降及傾斜功能

?雙功能一鍵切換一鍵鍍膜,全自動操作

?雙組件均配備防污染系統(tǒng)有效保護鍍膜組件

?進口分子泵極限真空優(yōu)于5E-3Pa


主要參數(shù)

外形尺寸

278(L)×494(H)×467(D) mm

供電要求

AC220V/50Hz  <1000W

濺射靶材

Φ50mm,厚度0.1-2mm

可用靶材

所有金屬、導電材料等

工作電流

1-200mA可調(diào)(步長:1mA)

鍍膜時間

1-9999s可調(diào)(步長:1s)

蒸發(fā)源

高純碳纖維

蒸發(fā)模式

閃斷模式、脈沖模式

真空室

170(L)×150(H)×163.5(D) mm

一體加工金屬腔室

極限真空

≤5×10-3Pa

真空泵

旋片泵(可選干泵)+分子泵

主真空泵抽速

90L/s

預濺射

全自動預濺射系統(tǒng),防止樣品污染及組件污染、提高鍍膜純度

樣品臺

Φ80mm,支持旋轉(zhuǎn)、升降及傾斜功能

其它

真空度、工作電流可實時曲線顯示




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